表面処理剤 
PAMプロセス・パームレスシリーズ
【現像液】

【アルカリ型現像液】
●PAMプロセスA
PAMプロセスAは無機アルカリ塩主体の、液体型濃厚液です。水(水道水可)で50倍希釈するだけで、Na換算濃度1%相当の液体が調整出来ます。難解性の白色結晶物の槽内析出を抑止、大幅な削減が可能です。
液体薬剤である為、加温溶解や撹拌溶解が必要なく適正濃度管理が行えます。
また、PAMシステムとの併用により、更なるスカム、スラッジの改質とランニングコストの削減が計れます。



パターン再現性

  荷姿 入目
PAMプロセス A  ポリドラム 200㎏
ロンテナ 20㎏
PAMプロセス G-TRネオA ロンテナ 20㎏


【レジスト現像用添加剤 (ノンシリコンタイプ)
●PAMプロセスB  (ノンシリコンタイプ)

エマルション型消泡剤⇒ PAMプロセスBが完全代替
従来使用されていた消泡剤は全く不要です。
PAMプロセスBの適正微量添加で全てまかなわれます。
・定量化が困難であった消泡管理の運用を一元化しました。
・スカム(難溶性生成物)助長が抑止され、分散効果で槽内をクリーンにします。

  荷姿 入目
PAMプロセス B ロンテナ 10㎏
ロンテナ 20㎏
PAMプロセス Bk ロンテナ 10㎏
ロンテナ 20㎏
PAMプロセス Br ロンテナ 10㎏
ロンテナ 20㎏

【分散改質・消泡作用添加材 (ノンシリコンタイプ)
●パームレス NOBシリーズ
DFR現像/剥離及びPSR現像の消泡に適応した即効・持続性に優れた分散改質・消泡作用のある添加剤シリーズです。
・NOB-25‥DFR現像の発泡に適し、消泡即効性・抑止持続性に優れています。
・NOB-30‥DFR現像と剥離工程の両用対応タイプでアミン系剥離液にも適した万能型です。
・NOB-50‥PSR現像に適したタイプ。微量添加での持続性・スカム分散性を追求した新発想の添加剤です。

  荷姿 入目
パームレス NOB-25 ロンテナ 10㎏
ロンテナ 20㎏
パームレス NOB-30 ロンテナ 10㎏
ロンテナ 20㎏
パームレス NOB-50 ロンテナ 10㎏
ロンテナ 20㎏


【分散改質・消泡作用添加材 (ノンシリコン・エマルジョンタイプ)
●パームレス RBシリーズ
パームレスRB-1020は、非イオン系界面活性剤主体のエマルジョン型消泡剤です。
感光性レジストの現像・剥離工程及びSRインキの現像工程の消泡に適しています。

1液型低粘性タイプで水可溶性が良く希釈使用が可能な汎用性に富んだ製品です。
基本特性である破泡性と消泡持続性に優れた効果を発揮します。


ブランク → 発泡試験開始 → RB-1020添加 →瞬時に消泡


  荷姿 入目
パームレス RB-1020 ロンテナ 10㎏
ロンテナ 20㎏
パームレス RB-1020S ロンテナ 10㎏
ロンテナ 20㎏


【レジスト現像槽用リンス剤】
●PAMリンスシリーズ(PSRライン用専用リンス剤)
●PAMプロセス DR(DFRライン用専用リンス剤)
本製品群はPAMプロセス専用リンス剤として開発された製品で、レジスト現像の1段水洗を代替する薬剤として、水洗効果の向上を図る目的・用途に使用できます。
本剤は他のアルカリ塩現像浴ラインにも導入が可能です。

ソルダーレジスト現像工程では、現像新液・ 水洗では困難な浴中生成物による製品表面への付着残留減少が不具合となっている場合があり、 本剤を導入することでそれらが起因する問題への効果的な改善が望めます。

・付着物の特性・特質に応じて、原液~10倍希釈の濃度条件範囲でご使用頂けます。
・本剤は中性液体で常温での使用ができ、銅面及びレジスト形成面へのアタックはありません。
・現像液及びインク成分が持ち込まれても、リンス効果を維持し、補給による回復性に優れたランニング特性があります。
・水洗効率の向上が図れるので、供給数量の軽減が可能でアルカリ系、一般系排水の双方に排出が可能です。

◎導入に際して、設備の増設の必要はありません!!

  荷姿 入目
PAMリンス SD ロンテナ 20㎏
PAMリンス SG ロンテナ 20㎏
PAMプロセス DR ロンテナ 20㎏



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