製造装置

レーザーダイレクトイメージング装置

SCREEN社製 直接描画装置 

Ledia7

半導体パッケージ基板の回路形成、ソルダーレジスト露光はじめ、メタルマスクなど微細加工が必要なパターン形成にも対応。

■L/S=10μm/10μm

■SRO=30μm

LediaTwin

新開発のツインステージ搭載!高品質を維持しながら、生産性向上に特化したモデルです。

■L/S=30μm/30μm

■SRO=60μm

■2枚/4枚置き同時露光対応

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